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簡單介紹：
UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3
?????塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司系 京都玉崎（日本）株式會社全資設立的中國子公司，自2014年成立以來，迅速崛起，專業從事國內貿易/國際貿易業務，主要經營光學設備、電子計測儀器、科學儀器、機械加工設備、環境試驗設備、PC周邊用品、作業工具用
詳情介紹：
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 HMW-615N |
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|
 VUM-3073F |
||||
| ◆ 特 徴 |
| 1． | 基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い獨自の低圧ＵＶランプを搭載しています。 |
| 2． | 基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。 |
| 3． | 基板はあまり加熱されません。 |
| 4． | オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。 |
| ◆ 仕 様 |
| 型式 | HMW-615N-3 | HMW-615N-4 | VUM-3073F |
| 使用ランプ |
低圧ＵＶランプ VUV-080/A-3.6U?5燈 |
低圧ＵＶランプ VUV-100/A-5.3U?7燈 |
低圧ＵＶランプ VUV-040/A-2.2U?4燈 |
| 照射距離 | 25mm | 25mm | 15mm |
| 照射面積 | 300W X 300D | 400W X 400D | 200W X 200D |
| 照射時間 | 0～10min(可変) | 0～99min59sec(可変) | |
| 排気????除去 | オゾン分解用フィルター使用 | ||
| 外形寸法 | 750W X 700DX 1,435H 180kg | 580W X 500DX 240H 25kg | |
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